RF-Magnetron Sputter là một kỹ thuật tạo màng mỏng (Thin films). Từ trường tạo ra bởi Magnetron sẽ định hướng dòng plasma tạo thành thành các loops (vòng tròn) do đó mật độ ion trong plasma cao hơn và đồng đều hơn do đó plasma mật độ cao có thể tạo thành trong ở áp suất thấp. Hơn nữa, Magnetron sẽ bẫy các điện tử tập trung trên bề mặt của target và trong quá trình đó dưới tác dụng của điện trường RF sẽ sẽ ion các tiểu phân khí và chính các tiểu phân khí tạo thành này sẽ bắn phá bề mặt của target. RF ở đây là viết tắt của chữ Radio Frequency nhưng ý nghĩa của nó ở đây là năng lượng của quá trình tạo plasma được cung cấp bởi các dòng điện xoay chiều cao tần (ở tần số sóng radio từ 2 - 20 MHz). Thông thường khí Ar, Nitơ hay hỗn hợp các khí này với Oxy đóng vai quan trọng trong bốc bay vật liệu ở target ngoài ý nghĩa là khí tạo ion nó còn tham gia vào quá trình tạo màng nữa. Nói chung là thin films tạo bởi kỹ thuật này có thể bao gồm nhiều vật liệu khác nhau và màng rất đồng đều.
|