Một số hình ảnh minh họa cho quá trình magnetron sputtering, bạn có thể tìm hiểu thêm ở bài viết này
http://chemvn.net/chemvn/showthread.php?t=3451
Thông thường để bắn phá các target là kim loại hay chất dẫn điện được thì ta dùng dòng 1 chiều (direct current) để tạo plasma (dc-magnetron sputtering). Nếu các target là các chất cách điện như các oxid... thì bắt buộc ta phải dùng dòng rf để tạo plasma.