Trích:
Nguyên văn bởi southlight
Mình có hai câu hỏi nhờ các bạn giải đáp giúp:
1. Có thể phún xạ hai loại vật liệu khác nhau trong cùng một máy không? ( VD như kim loại và oxit ). Liệu sau khi phún xạ oxit rồi phún xạ lại kim loại thì lớp màng kim loại có bị ô nhiễm không?
2. Buồng chân không sau khi phún xạ, vật liệu phún xạ bám đầy trên tường buồng. Có cách nào tẩy sạch chúng không? Nếu không tẩy sạch thì khi phún xạ một loại vật liệu khác thì những vết bẩn này có gây ô nhiễm lớp màng vật liệu mới phún không?
|
1. Buồng phún xạ dc hồi trước tôi làm thì có 2 điện cực, nên có thể phún xạ 2 kim loại đồng thời. Oxide thì thường dùng rf để phún xạ. Lúc tôi làm cũng có 1 buồng rf để kế bên, nhưng tôi không dùng tới. Chuyện kết hợp 2 buồng làm 1 tôi nghĩ là có thể làm được, nhưng design chắc khó. Cách đơn giản hơn là phún xạ rf ở buồng kia rồi chuyển qua buồng này phún xạ tiếp kim loại. Việc duy chuyển rất đơn giản và nhanh.
Phún xạ lớp oxide sau đó phún xạ lớp kim loại thì không làm ô nhiễm gì đâu. Bên này tôi thấy 1 group vẫn phủ nhiều lớp như vậy khi chế tạo fuel cell (bề dày mỗi lớp khoảng vài trăm nano đến 1 micron). Lớp tiếp xúc có thể đan xen giữa 2 vật liệu vì bề mặt sau khi phún xạ không hoàn toàn flat, mà rough. Hồi đó tui đo độ roughness sau khi phún xạ khoảng vài chục nano.
2. Buồng phún xạ không cần phải lau chùi gì cả. Hồi trước làm thấy buồng phủ đầy các vật liệu khác, nhưng chất lượng film của mình vẫn ok. Chạy XRD không thấy lẫn tạp chất nào.